多次來(lái)到光谷,,習(xí)近平為何重點(diǎn)關(guān)注這個(gè)領(lǐng)域?
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2024-11-09 08:40:27
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11月5日下午,,習(xí)近平總書(shū)記到武漢產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展研究院考察,,觀看科技創(chuàng)新供應(yīng)鏈平臺(tái)成功案例展示和科技創(chuàng)新成果,了解推進(jìn)科技創(chuàng)新的舉措,,同科研人員和企業(yè)負(fù)責(zé)人深入探討交流,。
2013年至今四赴光谷實(shí)地調(diào)研,今年在多地考察重點(diǎn)關(guān)注,,習(xí)近平總書(shū)記對(duì)科技創(chuàng)新的關(guān)切和重視,,始終如一。
(原標(biāo)題:多次來(lái)到光谷,,習(xí)近平為何重點(diǎn)關(guān)注這個(gè)領(lǐng)域,?)
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